产品介绍
Leica EM ACE200徕卡低真空镀膜仪-全新一代喷金仪/喷碳仪/蒸镀仪 ：
Leica EM ACE200徕卡低真空镀膜仪，适用于常规SEM和TEM分析。是全新一代ACE系列产品之一，是徕卡科学家合作研发的结晶，它涵盖了样品制备过程中所需的从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜的所有镀膜需求。使用它能体验到全新镀膜设备的先进技术，简约，简便，快速，可靠地实现样品表面镀膜，使样品在EM中获得十分理想的图像。
这款低真空镀膜仪，可选择离子溅射镀金属膜、碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具备这两种功能。充分满足日常SEM需求，还能用于X-射线能谱及波谱分析及TEM铜网镀碳膜。电脑程序控制，一键操作，全自动完成抽真空、镀膜、放气等全过程。触摸屏控制，简单方便，快速可靠。
Leica EM ACE200徕卡低真空镀膜仪-关键特征体现优势：
全自动化可获得重复性完美镀膜
? 电脑程序控制，触屏参数设置，镀膜进程全自动化运行
? 配置石英片膜厚监控，确保制备出可重复性镀膜
溅射和碳丝蒸发镀膜功能多样
? 可配置成溅射镀膜仪或碳丝蒸发镀膜仪，也可根据需要装配可调换镀膜源，实现两种
镀膜方式
? 还可选配石英片膜厚监控，用于制备可重复性镀膜；行星旋转样品台，用于对裂纹型
样品喷镀均匀镀膜；辉光放电，用于使TEM网格亲水化
更多细节带来舒适工作体验
? 高品质台式镀膜仪设计小巧紧凑，占地小，节省实验室空间
? 仪器的门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台等部件均可拆卸，非常容易清洗
? 直观的触摸屏一键式操作使仪器使用操作非常简便
Leica EM ACE200徕卡低真空镀膜仪技术参数：
可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，
可选辉光放电（用于网格表面亲水化） |
| 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 |
| 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm |
| 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 |
| 触摸屏控制，简单方便 |
| 真空度≤7x10-3mbar |
| 溅射电流：0-150mA可调 |
| 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）x145mm（深）x150mm（高） |
| 工作距离调节范围：30-100mm |
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