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感应耦合等离子体（inductively coupled plasma）蚀刻
感应耦合等离子体（ICP），是通过包裹真空反应舱外侧的高压线圈激发产生的。两个平面电极之间的平面蚀刻。
通过高压线圈产生低频或射频循环，频率：13.56 MHz，并在石英舱内激发产生气体等离子体。